二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226212 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Equipment是一個集成的半自動系統，可用於光刻工藝。其設計目的是在晶片上精確地分配和精確地暴露光刻膠，以產生高分辨率的圖樣，用於大規模制造微電子器件。該單元由幾個關鍵組件組成：主控制臺、探測器頭組件、曝光單元和晶圓對齊機（WAS）。主控制臺是工具的核心部分,它既提供用於控制資產的接口,也提供用於顯示操作的狀態和結果的接口。主控制臺還裝有流體輸送模型，用於在光刻過程中將光刻膠和其他液體精確地分配到設備中。檢測器頭組件是將晶片移向和移離曝光單元以及確保晶片與曝光單元的光學器件正確對齊的機構。曝光單元負責使用可編程激光器將圖樣投射到晶片上，而WAS是探測器檢測光刻膠、激光器和晶片本身之間錯位的機制，允許應用校正。該系統還采用了一個反饋單元，該單元與WAS一起，有助於確保以最高精度完成暴露和分配操作。反饋機由幾個探測器組成，這些探測器放置在光刻膠輸送噴嘴、激光和晶片附近。這些探測器測量了光刻膠的電阻率，也檢測了實際的曝光時間和激光電流。這種反饋有助於保證光刻工藝的準確性和質量。此外,TEL Mark V還利用多種安全功能,例如緊急停止工具、互鎖安全系統和基於攝像頭的存在檢測資產,以確保晶圓在曝光過程開始之前處於適當位置。總而言之，TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Model是在晶片上以高精度產生精確圖案的有力工具。該裝置具有精確的分配設備、可編程激光、反饋系統和安全特性，能夠為大規模制造微電子器件提供可靠一致的結果。