二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9226369 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Equipment是一個最先進的集成平臺,旨在方便大批量生產用於設備制造的光敏材料。它是TEL專有的串聯基板加工技術和用於大批量生產的先進光學捕獲技術的結合。該系統以其精湛的均勻性和出色的輪廓控制而著稱。TEL Mark V Photoresist Unit結合了TOKYO ELECTRON先進的基於真空的掩模輻射技術，以確保掩模和光阻膠之間的高對準精度。利用改進的曝光操作,可以在光刻膠和遮罩圖案之間實現高度精確的對準。TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Machine能夠以0.25微米的分辨率曝光，曝光時間低至8毫秒，實現精細的螺距裝置制造。該系統還采用了線性電動機嵌入式光學控制工具。該資產利用低失真執行器來保持掩模、晶圓和投影光學器件之間的精確對準。這樣可以確保將圖樣從蒙版精確傳輸到光刻膠。此外,TEL MARK-V Photoresist Model還包括一個全自動對準和曝光設備,允許快速、簡單的維護和設置。該系統提供了較高的交叉跟蹤一致性級別,從而實現了高度可重復和一致的結果。此外,該單元還采用動態模式調整（DPT）和動態焦點控制（DFC）技術,以確保每次曝光時的最高分辨率質量。TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Machine還能實現低溫活化和濕式清潔光刻膠，以及對產生的圖樣造成損害的最低風險。此工具的開發可降低汙染程度、提高吞吐量、提高產品的統一性和提高用戶滿意度。總體而言,MARK-V光刻資產的設計目的是提供無與倫比的性能水平,以便一致、精確地制造精細的螺距設備。是大批量生產敏感材料的完美解決方案。此外，該模型還可以方便地進行維護和設置，以及改進設備制造過程的安全性和控制性。