二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384735 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V Photoresist Equipment是一款先進的自旋光刻系統,其特點是增強半導體工業的光刻塗層工藝。它采用雙級塗料實現晶片表面光敏材料的均勻沈積。該單元可以處理不同的抗蝕劑材料，包括薄膜抗蝕劑如Silsesquioxane氫（HSQ）和苯甲醇基抗蝕劑（BAR）以及高達16,000 rpm的3000 rpm的自旋速度。該機器還提供了幾種改進過程控制的選項。它配備了電子電平監視器，以確保晶片表面時刻均勻的抗蝕塗層。它還具有一個晶圓傾斜機構，用於控制晶圓邊緣的抗蝕性厚度。這種傾斜機制允許對晶片上抗蝕劑的邊緣排除進行精確控制。TEL Mark V Photoresist Tool為精確晶片處理提供了若幹附加功能。它具有內置的邊緣取珠噴嘴，能夠去除邊緣取珠，從而提高最終光掩模中光刻膠的質量。另外，它的分離式噴嘴設計用於均勻分散光刻膠噴霧在晶圓周圍。此外，TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Asset的特色是開發後的洗滌，在噴霧室內採用高壓噴塗的特性。這樣可以確保從模型中獲得的光致抗蝕劑是幹凈的並且沒有任何汙染物。開發後清潔還包括一個分拆噴嘴，以確保所有剩余液體被完全清除。總體而言,Mark V Photoresist Equipment的功能通過提供卓越的均勻性和改進的工藝控制,幫助顯著降低與光刻膠薄膜沈積相關的成本。該系統還支持多種抗蝕劑材料，並提供出色的光學和物理清晰度的成品光掩模。這樣可以確保所得到的平版印刷圖樣質量和精度都很高。