二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9384736 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V光阻設備是用於制造超高密度集成電路芯片的先進技術。它能夠在薄膜上沈積和蝕刻抗蝕層。光刻膠系統專為前緣晶片和微處理器而設計。它是一種高性能機器，結合了精密的光學單元和先進的過程控制機器。TEL Mark V由幾個組件組成，包括亞微米對準器、光刻膠分配模塊、化學預剝離模塊、等離子體剝離器模塊和抗蝕劑剝離模塊。該對齊器用於將晶片與光刻膠分配單元精確對齊，而光刻膠分配模塊用於將光刻膠光敏材料分配到晶片上。化學預剝離模塊用於晶片的初步制備，為抗蝕劑攝影做準備。等離子體剝離器模塊可根據需要對某些層進行等離子體蝕刻。最後,抗蝕劑條帶模塊能夠在開發後去除抗蝕劑層.TOKYO ELECTRON MARK-V的亞微米對準器使得晶圓上的特征與具有亞微米精度的成像工具對準。該工具配備了多種對齊方式，包括掃描對齊、平滑對齊、焦點對齊。MARK-V的光刻膠分配模塊由一個自動端點監控器組成，用於跟蹤沈積過程中的光刻膠曝光狀態。它還包含一個熱導體分配傳感器，用於光刻膠的精確定位。TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V先進的工藝控制資產由溫度控制器組成，用於監測晶圓和光刻材料的溫度，以精確控制圖像質量。該模型還具有自動基板分析工具，能夠快速確定關鍵晶片特性。Mark V光致抗蝕劑設備提供超高密度電路芯片的極其精確和高性能的制造。它能夠快速、準確地對準和沈積光敏材料，使復雜設備的生產達到盡可能高的標準。先進的工藝控制系統允許仔細的溫度監測和基板分析，進一步提高了結果的準確性。