二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark V8 #293643504 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK V8 Photoresist Equipment是一款功能強大的數位圖案化工具，使公司能夠以高度的精確度和精確度製造光掩模。用於半導體器件、顯示器等微電子產品的創建。在其核心，TEL Mark V8是一個輸送機型系統，利用先進的步進電機技術，精確地放置特征到一個光掩模空白。該裝置設計用於加工尺寸達到600mm的基板，並以0.5至3µm的最小圖案尺寸運行，位置精度為0.3µm。TOKYO ELECTRON MARK V8利用光掩碼，這一過程用於有選擇地光學去除基板材料（例如矽）的部分，然後根據設備制造的需要將圖樣化的基板轉移到光掩碼上。該機采用先進的掩蔽技術，如：-I線照明：波長為365 nm，用於繪制小特征圖樣。-KrF Deep UV：波長為248 nm,可用於設計大型特征。-G線照明：波長為515 nm，用於中型特征的圖案。-寬帶照明：具有360至420 nm的寬波長覆蓋範圍,用於各種特征尺寸的陣列。-激光直接成像：利用看不見的激光束在光掩模上直接創建圖樣，從而無需進行廣播照明。為了確保質量和可重復性,Mark V8提供了一些改進掩蔽過程的高級功能。這些特性包括雙光束對準、自動對準校正、邊緣邊緣模具移位校正、低光圖像識別和高分辨率成像。此外,該機器能夠同時執行多個處理步驟,包括膠片開發、掩蔽、蝕刻和成像。該機還具有支持多種處理方法的能力，以適應不同客戶的需求。TEL/TOKYO ELECTRON Mark V8專為需要快速可靠生產高端光掩模的用戶而設計。其準確性和可重復性使其適合半導體器件、顯示器和其他復雜電子器件的制造商。該工具能夠處理各種基板，其特點為公司提供了一種高效、高質量的制造復雜電子設備的方式。