二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N #9148318 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Mark Vz 10000WC-N是一種光刻光敏應用的光刻設備。它使用先進的光刻工藝，其中光被用來將圖樣從光掩模轉移到基板上。該系統可實現高質量的圖像,並精確控制圖案位置和大小。該單元高度集成，為包括制圖、清潔、蝕刻和檢查在內的抗性應用提供了一個整體解決方案。它由用作掩模光源的照明器、用於暴露掩模的電子束掃描儀和有助於將圖樣轉移到基板上的離子束蝕刻器組成。照明器的溫度控制為+/-1 °C,可確保均勻和一致的照明。電子束掃描儀能夠精確掃描1至5微米範圍，最大工作速率為500倍。它使用3級加速機，具有加速/減速、聚焦、消隱能力。離子束蝕刻器能夠精確蝕刻分辨率為2納米的樣品。該工具還包括一些預處理和後處理系統,以滿足特定的客戶要求。它具有圖像捕獲功能,用於監視和分析過程、自動對齊校準、分析獲取的數據、光學讀取圖樣以及掩碼檢查。資產使用TEL ScrubRX溶液清洗基板和烘焙選擇器，以容納各種類型的抗蝕劑。此外,它還使用一系列特定於掃描儀的電子濾鏡來控制圖像的質量,例如調整圖像參數的多過程濾鏡（MPF）和用於分色的ChromaFilters。總體而言,TEL Mark Vz 10000WC-N是一種先進的集成光刻膠模型,使用戶能夠實現高質量的高分辨率圖樣,並精確控制圖樣位置和大小。適用於一系列應用，從測量表面粗糙度到最先進的半導體器件集成。