二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #149633 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz Photoresist Equipment是一種工業生產納米級圖案的高端精密光刻系統。這種最先進的光刻裝置允許在經常使用的波長（例如633 nm、365 nm和248 nm）上制作極其精細和詳細的幾何圖案，並提供高端化學加工和計量功能。TEL MARK-VZ光刻機提供多種操作模式，包括光學投影光刻（OPL）和電子束光刻（EBL）。在OPL中，光被投射到投影透鏡上，透鏡將精細的圖案放大到基板上--操作的終極目標。EBL是當極細結構需要極高精度時使用的過程。這種光刻方式利用高度聚焦的電子束在基板上書寫精細的結構。TOKYO ELECTRON MARK V-Z Photoresist Tool也提供各種化學過程，如原塗層和開發。原塗層步驟有助於保護基板和創建一個均勻的表面，而顯影有助於軟化和溶解光刻膠層，露出下面的圖樣。此外，TOKYO ELECTRON MARK-VZ Photoresist Asset提供計量功能，以確保成品的最高品質。這些測量包括各種測量,例如線寬和高度、側壁角度和叠加誤差,這些測量對於保證精確和一致的陣列幾何都很重要。TEL/TOKYO ELECTRONMARK-VZ光刻膠模型非常可靠,可優化任何光刻工藝的通量和精度。這種設備允許生產極其精細的結構，從而能夠生產從3D結構到納米電子設備的任何類型的可想像的模式。因此，對於希望制造最精細和最復雜結構的公司來說，這一系統是一個寶貴的工具。