二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #293587287 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是一種最先進的納米制造光阻設備，為制造超小型電阻和/或集成電路（IC）提供精確、高不透明度的抗拒成像解決方案。憑借其卓越的速度和精度，它是半導體行業內制造感光器件最全面、最可靠的光刻系統之一。TEL MARK-VZ光阻系統配備了自動最佳曝光（AOE）單元,可提供精確、一致的抵抗曝光。AOE機集成了優化的曝光參數：曝光能量、劑量和創建可靠的抵抗模式所需的時間。TEL專有的溫度控制夾具支持一致和低溫抵抗應用,而基板高度控制（SHC）提供了卓越的抵抗均勻性,並能快速響應抵抗高度變化。通用的TOKYO ELECTRON MARK V-Z工具設計用於輕松處理任何類型的抗蝕劑和基材材料,包括正負光抗蝕劑。隨著按鈕的觸摸，溶解和開發抗蝕劑圖像的條件可以很容易地改變，從而能夠適應每個特定項目的確切需求。MARK V-Z還配備了高分辨率的模式識別能力，在將圖像從一個目標基板傳輸到另一個基板時允許快速、輕松的自動對準。此外，MARK-VZ光致抗蝕劑資產的設計能夠接受額外的模塊和組件，如附加的晶圓采樣器，以及附加的基材或晶圓傳輸模型，這取決於特定應用程序的具體需求。TOKYO ELECTRON MARK Vz在單一功能強大的設備中提供靈活性、精確度和多功能性。它是為各種應用（從復雜的IC到光敏設備）設置功能和經濟的納米制造的理想投資。