二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9118822 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是為先進的多層亞微米器件制造而設計的先進光刻設備。它由一個光掩模對準器、一個微調器、一個幹蝕刻器、一個濕顯影劑和一個等離子體灰燼組成。該系統能夠通過使用自動對準裝置和高度可配置的多層抗拒工藝，以極精確的精度沈積多達四層多層的亞微米裝置前體。TEL MARK-VZ掩模對準器能夠在低至0.15 μ m的分辨率下掩蔽正負抗蝕劑，是亞微米器件制造的理想選擇。微調器也非常精確，具有溫度控制環境，允許微調控制光敏蒸發速率和厚度。在ALD/PEALD和DVD系統的輔助下，可以得到高度均勻、高品質的抗蝕膜。幹蝕刻器也是機器的一個重要組成部分，允許在光致抗蝕劑制圖之前將摻雜劑和其他成分精確地沈積在基板上。濕法顯影劑利用濕法化學加工工具，保證了抗蝕劑的可靠開發，實現了均勻的抗提除。最後，等離子體蝕刻器通過消除傳統幹蝕刻可能出現的底蝕或過度蝕刻問題來確保微調蝕刻。TOKYO ELECTRON MARK V-Z提供先進的設備制造和可定制的陣列,以滿足客戶的特定要求。它是一種可靠和高度精確的光刻膠資產,專為要求最苛刻的應用程序而設計,具有自動化和高度可配置的抵抗工藝和對齊系統。該模型還提供了更快的執行時間和周期時間以及經濟高效的處理,使客戶能夠使其設備可靠、快速且浪費更少。