二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9221713 待售
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單擊可縮放
ID: 9221713
晶圓大小: 6"
優質的: 1994
(1) Coater / (2) Developer system, 6"
With scrubber
Missing parts:
TEL Vac solenoid valve
TEL Resist 1 cap
TEL Resist 2 cap
TEL Resist 3 cap
TEL Resist 4 cap
TEL Cup controller (Humidity)
TEL Timing belt, P/N: 023-101053-1
WATANABE Interferometer laserhead
SSM DEVE Spin motor
TEL WEE Shutter photo sensor
TEL DEVE Edge ring
TEL Circulator pump
TEL Resist pump4
TEL M/A θDriver
TEL M/A θBelt
TEL M/A Z Motor
TEL DEVE Drive
TEL Humidity sensor
1994 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是一款一流、高精度的「光刻」設備,設計用於半導體生產中的光掩模曝光和蝕刻。它用於微電子和光學電路的成像和制圖。該系統配有微光和投影成像系統,用於處理包括金屬、聚合物、有機物和陶瓷在內的一系列基板。該機可處理尺寸小至0.05mm的基板。該單元還包含高分辨率攝像機,用於檢測和調整基板曲率,確保每次曝光都準確一致。該機采用均勻、高速的紫外線激光掃描儀和廣域光學顯微鏡,可精確對準激光束。這項技術使機器能夠精確控制曝光劑量和打印質量。該工具還擁有高速自動晶圓處理資產。該模型能夠在xaxis和y軸上精確對齊基板,以實現一流的曝光均勻性。設備配有口罩清潔系統,確保在暴露過程中沒有灰塵或其他顆粒汙染口罩或基板。這個單元使用先進的算法來定位和識別任何潛在的汙染物並從基板上清除它們。該機器還具有高度精確的開發工具,能夠控制開發人員的數量,以確保開發過程的準確性。它還具有一個圖像庫,可以存儲多達40萬個以前開發的模式的圖像。最後,資產能夠提供計量學服務,幫助確保暴露的抗蝕劑達到所需的厚度和發達的抗蝕劑特征一致的模式質量。這有助於確保通過成像產生的設備質量最高。
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