二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9386549 待售
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單擊可縮放
ID: 9386549
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 6"
(4) Spin bodies
Power box
Chemical box
Temperature control unit
T and H (Auxiliary part)
Chuck, 6"
Transfer arm
Centering alignment
Index:
(2) Load ports
25-Slots mapping
Spin coater:
(2) Resist nozzles
PR Nozzle temperature control
Dummy dispense system
Vacuum chuck
Resist suck back
Back rinse nozzle
EBR Nozzle rinse
IWAKI Bellows pump
EBR Back flow meter
Upper and lower cup
Exhaust: Auto damper
Facility drain line
Nozzle moving: Stepping motor
Temperature and Humidity Controller (THC) Coater chamber
Spin motor:
AC Servo motor: 0-5000 RPM, ±2 RPM
Maximum: 5000 RPM
(2) Spin developer:
Develop nozzle temperature control
Vacuum chuck
DI Rinse
Back rinse nozzle
Upper and lower cup
Developer flow meter
Back rinse nozzle
DI Rinse
(4) Hot plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Program time: 0 ~ 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
(3) Cooling plates, 6"
PID
PT Temperature sensor
Range: 15°C - 35°C
AD Plate, 6"
PID
PT Temperature sensor
HMDS Vapor chamber cover
HMDS Bubbling tank
Program time: 0 - 990 sec (set 1sec)
Temperature range: 50°C - 180°C
Chemical cabinet:
Photo resist system
Bottle (1 Gal): Trap tank, (2) Nozzles
HMDS Tank: 2.5 L
Thinner: Canister (5 GL)
Developer: Canister (5GL)
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK VZ是一款具有頂級正負光刻技術的光刻設備。該系統使得開發各種應用的抗蝕劑成為可能，特別是那些涉及高分辨率、半導體兼容設計的應用。獲得專利的TEL MARK-VZ可以精確形成納米範圍內的圖案。該單元具有基板支架,允許在平臺上放置任何大小的樣品。其覆蓋範圍足以容納巨大的晶片，基板級精度確保定位精度。TOKYO ELECTRON MARK V-Z還包括一個曝光頭，具有諾貝爾獎得主的高斯照明光束和適應性強的聚焦位置。這樣可以實現更高的準確性和最佳的曝光一致性。在光刻中，MARK V-Z的PATMAX特性保證了圖案精度。它采用最新的進化算法來產生最好的結果。機器還包括自動校準和自動求解等功能，減少了手動步驟，努力減少時間和提高整體效率。此外，幹式高反射性照明光學器件還配備了原始HRI超對稱反射器（SHR），可提供比現有系統多88倍的光能。這樣可以提高曝光分辨率,並大大縮短處理時間。該光學器件還提供了優化的均勻性，使得MARK-VZ最適合於先進的光刻和後端工藝，如晶圓清洗和蝕刻。該工具集成了一個CENTRAL軟件套件，它可以方便地控制曝光過程和訪問機器的設置。它還為進度評估提供3D視圖,並啟用高級操作。支持管理多達四個曝光系統,CENTRAL可確保最高的曝光精度。這項來自TEL的新光刻資產利用最新的技術和算法，達到了顯著的精度和效率。MARK Vz具有強大的幹光器件和高級控制軟件套件,可能是要求最苛刻的半導體應用的理想光阻模型。
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