二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9399374 待售
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ID: 9399374
(2) Coater / (2) Developer system
(2) Coater:
Main body
Thermo controller rack
Drain box
UPS
Power box
THC
Chemical box 1
(2) Developer:
Main body
UPS
Power Box
Chemical box 2.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是一種新的光刻膠設備，旨在提高光刻膠成像過程的精度和速度。光致抗蝕劑是一種有機或無機材料，用於將圖樣轉移到基材上。TEL MARK-VZ系統由無掩碼光刻（MLL）單元和高分辨率投影光學單元組成。MLL單元是該單元中使用的關鍵設備,能夠使用光學重復或單發投影幾何形狀將圖樣精確投影到基板上。TOKYO ELECTRON MARK V-Z光刻機的投影光學單元使用先進的數位微鏡裝置（DMD）來管理小束投影。此DMD利用微小的多角度反射鏡來精確調整基板上每個圖案位置的曝光水平和焦距。此調整過程可確保高分辨率成像和精確的曝光控制。投影光學單元的多角鏡能夠投射可見光的整個光譜，以及紫外線和紅外輻射。MARK V-Z光刻工具中的MLL單元還具有場發射顯示（FED）投影屏幕。此屏幕可用於精確放置各種大小的圖案和大小。FED投影屏幕也極為明亮，使其適合在光刻中的應用。此外,此MLL單元可與一系列材料配合使用,用於不同的成像過程,包括化學擴增抗蝕劑、化學活化抗蝕劑和耐熱劑。除了MLL和投影光學設備外，TEL MARK Vz光阻資產還具有一系列特點，便於成像過程。例如,此模型可以在模式數據庫中存儲最多35個模式的配方。這樣可以確保用戶能夠快速加載並快速開始映像過程。該設備還采用了自動光學對準工藝，以幫助確保圖樣在基板表面上精確投影。此外，該系統可以自動調整模式曝光，以便用戶可以輕松設置他們需要的曝光時間和水平。總體而言，TEL MARK V-Z光刻機提供了可靠、準確、快速的光刻成像機。它的MLL和投影光學單元能夠精確地將圖樣投射到不同的基板上，而其自動化的光學對準和曝光過程使得設置和運行光致抗蝕劑過程變得容易。此外,用戶最多可以存儲35種不同的圖像處理模式,這使得此工具非常適合低容量和高容量項目。
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