二手 TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9245729 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON NS 300是光刻和薄膜沈積工藝的理想光刻設備。由全球最大的半導體生產設備供應商TEL（TOKYO ELECTRON）制造和供應。該系統具有優化光刻工藝和其他薄膜沈積工藝的幾個特點。TEL NS 300可以處理75毫米和150毫米基板，特征控制為2微米。它具有晶圓平整度、輪廓修改和邊緣舍入的高級功能。該單元還允許使用精確度為0.5um的緊密覆蓋控制。該機采用氣體回流技術，減少復雜的空氣承載工具問題，確保機械運動平穩一致。該資產由PC控制,圖形用戶界面模型便於操作。PSM驅動單元提供卓越而快速的移動性。該設備的區域掃描速度高達70毫米/秒,可確保光刻工藝比傳統方法更快。可編程的作業控制系統允許對功能和自由形式的移動進行大量定制。它還允許用戶探索可編程參數，以確保工藝條件的優化。該單元還擁有一臺精度為0.2 um的自動端點檢測機，端點基於基板的光信號。TOKYO ELECTRON NS300配備了穩定的離子束源，以減少刀具漂移，確保性能的良好一致性。晶圓座和樣品定位級都分別加熱和冷卻，可以達到200攝氏度的溫度。該溫度範圍對於光刻工藝是最佳的。該資產還具有提供現場實時模擬/演示以幫助設備選擇和調試的獨特功能。它還配備了預配置的屏蔽激光界面，以進一步優化光束曝光的工藝。該模型是所有先進光刻工藝的一站式解決方案。它是一種易於使用的設備,具有出色的功能,可確保出色的性能和可靠性。該系統適用於高速晶圓處理，可用於在半導體、印刷電路板、集成電路和微機電系統（MEMS）產品中創造應用。
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