二手 TEMPRESS 420 #104136 待售

TEMPRESS 420是光刻膠系統的一種。它是一種用於蝕刻和雕刻工藝的光刻材料，主要用於半導體器件的制造。420是一種正工作和化學放大的正光抗蝕劑。它抵抗在電磁光譜的紫外線和深紫外線區域的輻射暴露，以及電子束和X射線。TEMPRESS 420具有很高的感光性，具有極好的光速，可用於產生優異的線分辨率。抗蝕劑由於具有較高的抗蝕性溶解速率而形成易於拆卸的抗蝕劑結構，這使得蝕刻工藝更加容易，成本也更低。與傳統的光阻系統相比，該抗蝕劑提供了更好的整體性能。420包含兩個組成部分。第一種是多酚樹脂，它充當穩定器，提供光刻膠改進的光學反射，允許更好的聚焦深度。光致抗蝕劑的另一部分是丙烯酸單體，在暴露過程中聚合。單體分子在受到輻射時膨脹轉化為固體，屏蔽下面的微電子基板免受蝕刻或雕刻過程的攻擊。當受到輻射時，多酚樹脂和丙烯酸單體聚合，在抗蝕劑中形成正像。另外，丙烯酸單體提供了很好的光刻膠與底層晶片的粘合，允許改善蝕刻輪廓和更大的線寬。TEMPRESS 420的另一個優點是它與光刻工藝兼容，允許光刻膠的精確定位。光刻是利用高能輻射在晶圓上產生微電子元素圖樣的過程。輻射的頻率通常較窄，在基板上對非常小的元素進行制圖時可以很高的精度。這允許使用非常精確的口罩和精確的圖案，這對於制造復雜的微電子器件是必不可少的。最後，420是一個非常環保的光致抗蝕劑系統，因為它不含有VOCs（揮發性有機化合物），活性成分毒性低。因此，它可以是環保生產設施的首選。總之，TEMPRESS 420是一種正功、化學放大的正光抗蝕劑系統，在刻蝕和刻蝕微電子基板時具有優異的性能。它提供了改進的光速，出色的線路分辨率，以及更好的光刻膠附著到下面的晶片。此外，它與光刻工藝兼容，使其成為復雜圖案的理想選擇，而且環保且低毒性。