二手 TRYMAX NEO 2000 #9238169 待售
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已售出
ID: 9238169
晶圓大小: 5"-8"
System, 5"-8"
Dual chamber ashing platform
(3) Cassette stations
(2) BROOKS Versaport 2200 Integrated SMIFs
(5) Axis dual arm robots with specific wafer grippers
(4) Process modules:
Microwave downstream (2.45 GHz)
RF Bias (13.56 MHz)
DCP (RF Bias, direct coupling plasma)
Mechanical throughput: > 100 wph
Applications:
Bulk resist strip
Descum processing
Polymer removal
Post high dose implant strip
Silicon nitride etch application
MEMS Application
Compliance:
SEMI S2-01
SEMI S8-01
CE EU-RoHs.
TRYMAX NEO 2000是為精密光掩模鉛框處理而開發的領先光阻設備。光敏塗層是TRYMAX與日立化工公司共同開發的，為其用戶提供了多項優勢。光刻膠有助於防止鉛框加工中的擴散、橋接、邊緣珠等常見缺陷。這為用戶提供了優越的吞吐量和優越的領先幀處理效果。光刻膠系統易於使用，允許用戶快速建立預校準、微調參數，並根據產品設計變化的需要進行調整。這樣可以確保對每個生產批次的領導框架過程進行最高級別的優化。NEO 2000也是為了保持高精度而設計的。這是通過對鉛架層的精確檢查和密集的頭部壓縮來實現的。這有助於確保均勻覆蓋層,並有助於減少前導框架缺陷。光致抗蝕劑裝置還提供了更強的光掩模防護，以防止光線和其他形式的汙染。這有助於延長光掩模的使用壽命,並降低與生產維修相關的成本。此外，光刻機與大多數行業標準的光掩模兼容。這樣就不需要用戶為每個工作投資單獨的光掩碼,並有助於降低生產成本。TRYMAX NEO 2000是一種可靠的光阻工具，為用戶提供卓越的加工精度和改進的產品質量。憑借其易用性和經濟高效的生產能力,它是領導框架處理的絕佳選擇。
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