二手 ULTRA OPTICS Mini II #293597469 待售

ULTRA OPTICS Mini II是由ULTRA OPTICS開發，用於精密微圖案的光刻設備。光致抗蝕劑是在暴露於特定電磁輻射（如紫外光）時發生溶解度變化的材料。Mini II提供波長選擇性曝光和光化學功能,可在光刻膠表面上創建復雜的圖樣。該系統使用光源,其光譜可以調整以匹配所需的模式。它可以在曝光範圍內提供精確和靈活性,非常適合創建復雜、面向細節的圖案。它還帶有一個真空表，以創建具有最小失真的高分辨率模式。單位人性化的設計使其適合在實驗室、大學和其他類似設施中使用。該機器可以很容易地針對特定的應用進行定制。有了角度調節特征，可以提供不同的曝光角度。該工具還允許時間控制,以確保曝光的準確性。為方便起見,ULTRA OPTICS Mini II包括可選的自動校準資產。這可以讓用戶針對各種抗性材料、基材和工藝條件，快速準確地調整曝光。該模型還能夠為各種光刻膠提供支持。如果對基板進行適當的預處理，即使是低對比度或高吸收性的材料也可以用設備處理。該系統還能夠使用先進的曝光技術，例如冷曝光和深曝光，產生高分辨率模式。Mini II提供可靠的性能和耐用性。這是由於其堅固耐用的設計，以及其優越的輕型單元。設備的穩定性還確保其性能在延長使用期間保持一致。總體而言,ULTRA OPTICS Mini II是在光刻膠表面上創建復雜、詳細的微觀圖案的理想選擇。這臺機器提供精確和靈活的曝光範圍，以及支持各種光刻。其用戶友好的設計和穩健的性能使其適合在實驗室、大學和其他類似設施中使用。