二手 ULTRA OPTICS Mini II #9218885 待售

ULTRA OPTICS Mini II是一種光刻設備，利用來自紫外線和可見光源的光在半導體材料上創建光刻圖樣。該系統設計用於研發實驗室，可用於在半導體晶片上創建微觀和納米級模式。該裝置使用光致抗蝕劑，一種光敏材料，只允許在暴露於光源的地方發生化學反應。光致抗蝕劑被施加到晶片表面，然後用蒙版曝光。蒙版是金屬或SiO2圖樣,包含所需的光刻圖樣。曝光後，晶片被開發出來揭示所需的模式。Mini II能夠暴露廣泛的光刻圖案，並且可以支撐高達8英寸的基板尺寸。它使用180nm至448nm的多個激光源，可以在不同波長之間快速切換。這使得機器可以用於各種光刻項目和不同的分辨率。該工具還具有液晶顯示屏,可快速輕松讀取。這樣可以確保曝光水平正確,並產生正確的模式。ULTRA OPTICS Mini II是一種可靠的資產,它允許在不犧牲質量的情況下創建相對較快的模式。它非常適合需要快速、精確的光刻模式的研發實驗室。該模型可與各種光致抗蝕劑一起使用，允許用於不同分辨率的不同項目。