二手 ULTRA OPTICS Mini II #9277326 待售

ULTRA OPTICS Mini II是一種新型的光阻設備，設計用於在各種基板中提供可靠和高精度的微光元件制造。該系統結合了幾個組件，創建了一個高效可靠的光阻單元。該機為光學元件的制造提供了良好的網關定義性能和較低的缺陷級別。它具有緊湊的足跡，操作員可以在任何微光制造環境中方便地訪問和使用。該工具利用精密的USQ 193nm旋轉投影投影資產，為基板提供高分辨率成像。這種旋轉模型允許將所施加的光刻膠與基板上的幾何形狀進行極其精確的對齊。投影設備安裝在XYZ臺上，以便相對於投影光束聚焦精確定位基板。該系統還利用6-Axis機械臂在所有加工模塊之間精確地轉移基板。光致抗蝕劑單元采用多射流浸泡流體射流，在基板上方提供高度精確的光致抗蝕劑分配。這一過程減少了過程中的浪費，並確保了光致抗蝕劑的準確應用。一旦施加了光致抗蝕劑，它就會暴露在圓形偏振光下，進行在底物上形成圖像所必需的交聯反應。然後使用紫外線可見成像機監視交聯區域。自動自旋塗層可用於在大型基板上塗抹光致抗蝕劑，提供均勻的應用。該自旋塗層工具集成到MiniII資產中，可實現光刻塗層的自動化應用，提供卓越的工藝可重復性和準確性。最後，通過集成控制設備保證了光刻膠模型的精度。該系統允許操作員使用圖形用戶界面來控制光刻膠劑量、相機曝光時間、分配速度和旋轉速度等參數。這確保了成像過程是可重復和可靠的。綜上所述，ULTRA OPTICS Mini II是一種先進的光阻裝置，在各種基板上提供高度可靠和精確的微光元件制造。利用精密的USQ 193nm旋轉投影機和自動化的多噴射浸入式流體射流，精確地分配了光致抗蝕劑。集成控制工具提供了過程重復性和精度控制，確保了高質量和可靠的制造。