二手 ULTRA OPTICS Mini II #9316392 待售

ULTRA OPTICS Mini II是為微電子元件制造而設計的最先進的光刻設備。該系統是為滿足世界領先半導體制造商的要求而設計的，以卓越的均勻性和準確性提供了最高性能。其先進的光學設計提供了卓越的聚焦和強度，其精確的框架確保了元件的精確定位。該單元由一個精確定位框架和一個紫外線源組成，可根據波長和強度進行調節。定位框架設計方便加載、卸載、重新定位，允許靈活的掩模對準。先進的光學設計和精密的電子設備最大程度地減少了模式失真。Mini II能夠處理薄膜、厚膜和超細特征分辨率。它提供高通量節點編程，並且可以處理比其他光刻膠系統多五倍的模具。該機包括一系列的口罩和軟件工具，以生產質量和均勻性優越的電子元件。先進的工具可以精確編程遮罩圖案，以及將遮罩精確定位到精確定位框架。ULTRA OPTICS Mini II還能夠檢測到任何掩碼未對準,從而可以立即糾正並防止任何進一步的錯誤。資產的可靠性和卓越的性能使其成為大批量生產應用程序的理想選擇。該模型旨在承受惡劣的環境條件,並且可以跨多個過程步驟無縫工作。它的無汙染設計還確保以盡可能最好的產量和可靠性一致地生產元件。此外,該設備的設計易於使用,使用戶能夠快速可靠地創建復雜的組件。該系統還帶有可選的自動化組件,例如自動模式調整,以確保產品的一致性。該單元還得到了定期升級和維護的支持，允許用戶實現最大的機器性能和可靠性。Mini II是一款經濟高效、高性能的光刻工具，旨在滿足全球微電子元件制造商的需求。ULTRA OPTICS Mini II憑借其卓越的聚焦、運動和光學設計,確保了卓越的性能和可靠性,使其成為大批量生產應用的理想選擇。