二手 ULTRA OPTICS MR3 #293820553 待售

ULTRA OPTICS MR3是一種光刻設備,它為精確制造光掩模、晶片和其他光電器件提供了先進、高效的光刻解決方案。它是微電子工程、光學元件制造、光電器件和系統開發領域的理想應用。該系統采用專有的機動化平臺，對工作材料進行高精度定位，並采用獨特的浸入式光刻技術，以實現最大的曝光精度。該單元還提供對光刻參數的全面管理，即使在低生產成本下也能確保高分辨率輸出。高度精確的運動機床和先進的光刻參數相結合，使MR3成為滿足高精度或大面積光刻需求的理想解決方案。對於晶片處理應用，ULTRA OPTICS MR3配備了545 nm激光掃描儀和355 nm He-Cd激光器，每個激光器可高達20 Mpixels/s掃描速率，掃描分辨率高達10 µm，掃描面積可達60 mm對角線。使用該工具,用戶可以輕松編程曝光時間和激光跟蹤速度,以匹配模式的復雜性。此外,資產還能夠單獨調整激光功率,以確保圖樣的不同部分能夠準確曝光,而不會遇到正在處理的材料中的任何充電/放電問題。MR3還具有高動態聚焦控制功能,以確保在陣列化挑戰中具有穩定的掃描特性。此功能具有高精度可變聚焦光學元件,能夠在掃描過程中將過度聚焦和不足聚焦的信號編譯到工作材料上。它還為ULTRA OPTICS MR3平臺的自動對焦模塊提供連續反饋,從而實現優化的陣列精度。此外，內置的圖像失真去除算法消除了在曝光過程中不需要的模式扭曲。該模型采用復查掃描對準策略和可編程缺陷密度管理設備，提供了有效的缺陷管理。此系統會檢查、識別和標記掃描圖像中的任何潛在缺陷,以便能夠及時解決這些缺陷並對其進行適當補償,從而獲得更成功的操作。MR3光敏裝置是微電子光刻的可靠而有力的解決方案。該機提供高精度成像和生產敏感光電元件，其電動級其強大的平臺和控制算法保證了精確的模式。多重曝光技術、成像算法以及小型化和缺陷管理工具使ULTRA OPTICS MR3光掩模、晶圓和光電器件原型制作的理想並行處理解決方案。