二手 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 102 #9124003 待售

ID: 9124003
晶圓大小: 6"
優質的: 2000
UV curing oven, 6" UV lamp lamp intensity 25 mW/cm2 Wavelength: 254.7 nm Exposure time 35 sec 2000 vintage.
ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102是為開發直接書寫光刻工藝而設計的光刻設備,常用於精密光刻應用。該單元是一個完整的、集成的光刻膠系統,旨在在基板或晶片上產生可重現的、高分辨率的微結構。它能夠產生精確、堅固的結構特征,並在1 μ m至5 μ m的大小範圍內形成清晰的模式。該單元的設計目的是優化曝光精度、穩定性和線性度,從而能夠以最小的工藝步驟生成自信的特征。USI UH 102采用了兩級抗拒工藝;第一階段是抗蝕劑材料的熱沈積和成型,第二階段是抗蝕劑經過一系列顯影劑步驟後處理。該裝置有一個精確的加熱機,它可以使薄膜均勻沈積,並具有一個數字控制器,其顯示屏為溫度選擇提供了直觀的界面。此外,設備的曝光範圍最大為50mW/cm2,分辨率最大為0.1 μ米。該工具還具有一個內置的空間分辨率測試資產,以及一個用於一致流程輸出的曝光後監測模型。該設備能夠通過評估薄膜表面對比度來檢測在抗蝕劑顯影過程中薄膜厚度的任何變化。ULTRON SYSTEMS INC UH 102還配備了精密計量系統,允許測量1 μ m至5 μ m範圍內的小特征,同時也提供了對基板微幾何的了解。UH 102具有自動抗蝕劑塗層單元,旨在提供均勻的抗蝕劑薄膜厚度,並具有自動曝光後顯影機,可對其進行編程以一致提供一致、精確的曝光後模式。此外,該裝置還具有高精度的光刻膠分配工具,易於調節,能夠提供均勻的分配速率。總體而言,ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102是一種高效可靠的光刻材料,它提供高精度光刻工藝,可產生可重復的高分辨率圖樣,且工藝步驟最少。該模型的眾多功能,如數字控制器、自動抗蝕劑塗層、曝光後顯影劑和計量設備,使其非常適用於精密光刻應用。USI UH 102是一種可靠、精確、經濟實惠的光刻工具。
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