二手 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 130 #9171536 待售

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130光抗蝕劑設備是一種可靠且用途廣泛的儀器，旨在滿足工業實驗室環境的具體需求。該系統利用先進的光學和化學工藝提供了一個優越的圖像傳輸到廣泛的基材。USI UH 130光阻裝置結合了遮罩與基板的直接接觸曝光和投影曝光等曝光方法,提供了靈活性和安全性以及卓越的性能。ULTRON SYSTEMS INC UH 130光刻機具有兩個主要的曝光元件：一個寬廣的紫外線光源和一個包含曝光可編程電阻的光刻盒。這些組分結合工作，在聚酰亞胺和PVC等不同底物的表面上生成一層光致抗蝕劑薄膜。利用直接接觸的曝光技術，光致抗蝕劑可以粘附在樣品上，提供對環境的保護，並在圖像和基板之間提供一個功能上的聯系。UH 130 Photoresist Tool中的光學元件可實現廣泛的曝光範圍,其功率取決於基板類型和所需的特征尺寸。該資產可提供高達1.7mW/cm2的激光強度和0.1mm至20mm的工作距離。可調節的口罩支架還允許口罩尺寸範圍為20毫米至160毫米。ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130光刻膠模型的化學轉移技術消除了回填的需要，進一步簡化了曝光過程。光致抗蝕劑可以沖洗出盒式磁帶，允許在圖像和基板的兩個表面之間進行化學轉移，不需要額外的化學粘附。除了化學轉移過程外，USI UH 130光刻設備還提供了額外的診斷功能，使故障排除更加容易。這些功能包括用戶友好的圖形界面和提供詳細反饋的遠程控制選項。其直觀的真空系統控制壓力水平，確保準確和可重復的結果的最高水平的特征均勻性。此外，ULTRON SYSTEMS INC UH 130光阻裝置可以在廣泛的環境中運行。經認證可在A、B或C類潔凈室環境中使用，也可在-20°C至+50°C的溫度下運行。最終,UH 130光刻機提供了卓越的光學、化學和環境管理過程,以幫助簡化光刻應用過程。其廣泛的功能,結合診斷反饋和直觀的用戶界面,使ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130光刻工具成為任何工業實驗室設置的絕佳選擇。