二手 VERTEQ 1600-55M #9245629 待售

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipment是一種先進的光刻系統,用於各種基板上的光刻圖樣。這個單元是一個最佳的解決方案，用於暴露大基板，以及暴露高分辨率模式低至10 μ米。它采用基於LED的光源,具有精確的曝光均勻性和分辨率,可在6英寸的主動掃描區域內產生一致的照明強度。它支持廣泛的波長範圍，只過濾那些匹配所需的遮罩圖像的波長和偏振器狀態的照片二極管。它與多種底物材料兼容，包括的有​​、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、、1600-55M有五種用戶友好的操作模式-光刻開發模式、自動對齊模式、多重曝光模式和圖像調整模式-使用戶更容易配置和校準所需的設置。光刻膠顯影模式在圖樣化之前準備基板，自動對齊模式自動對齊基板以進行精確曝光。多重曝光模式支持在同一基板上同時曝光不同模式。此外,圖像調整模式還提供了對陣列參數的更細粒度控制。VERTEQ 1600-55M有一個可編程的精密掃描機,可提供高達10 μ m的模式分辨率.它具有可編程的聚焦和繪制速度與微調旋鈕精確的光學圖樣。它配有高分辨率CCD相機，用於對掩模圖像的精確定義。1600-55M還有一個內置的掩碼庫和一個實時自動聚焦功能,使用戶能夠快速輕松地為每次曝光設置工具。此外，資產還配備了調平模型，以確保所有面膜都與基板精確平行。該設備還具有先進的安全功能，例如接近傳感器，以確保掃描的圖像不會因振動而漂移或模糊。此外，該系統還具有用戶編程格式和易於使用和高效操作的用戶友好控制面板。VERTEQ 1600-55M Photoresist Unit憑借其高分辨率、精確的曝光一致性、廣泛的功能和用戶友好的界面,為用戶提供了高分辨率、精確的光刻的最佳解決方案。這種堅固的機器是各種光刻圖樣應用的理想選擇。