二手 VERTEQ 1600 #9280736 待售

VERTEQ 1600
製造商
VERTEQ
模型
1600
ID: 9280736
Spin Rinse Dryer (SRD) Membrane control panel Control box Resistivity monitor Static eliminator Automatic rinse cycle Emergency power: Off High pressure D.I water valve Capacity: Wafer carrier Facility: N2: 6-6.5 cfm under 50 psi DI: 1.75 gpm under 25 psi Drain: 1.1/2" NPT pipe Power supply: 120 VAC, 50/60 Hz, 15 A Rotor Balance: With cassette (6) D.I water nozzles Hot N2 dry Door seal Process capability and parameters: Rinse speed Rinse time Dry speed Dry time DI Resistivity monitor.
VERTEQ 1600是一款光刻設備,旨在為電子、光電和其他MEMS(微機電)電路開發復雜、高精度的光刻模式。該系統由高分辨率相機、光源和光刻工具組成。1600的相機能夠成像多達1600萬像素,每種顏色12位(3個通道),並配有內部照明裝置。該相機采用雙掩模對準機,利用網格圖樣精確對準標稱精度為+/-5 um的圖案幀。這種精確度允許高細節,低損耗成像,這是理想的MEMS和光電應用。VERTEQ 1600的光源是一個400瓦的短弧燈,提供一個均勻的,高強度的照明。該工具還包括一個雙光濾波資產,以允許在曝光時間和光譜範圍的靈活性。這允許用戶根據特定的要求和應用來調整照明和曝光時間。1600的光刻工具便於精確曝光光掩模。它利用集成的步進電機和獨立的控制器,方便在所有方向上進行全面的三維移動,從而實現高精度、可重復的特性,以最高+/-7.5 um定位精度的任意角度進行制作。光刻工具還包括一個聚焦模型,以確保曝光的最佳保真度。VERTEQ 1600是一種先進的光阻設備,設計用於開發復雜的電子和光電電路模式。除了集成的光刻工具外,它的高分辨率相機、雙掩模對準系統和400瓦短弧光燈還提供精確的曝光,使高細節、低損耗成像成為MEMS和光電應用的理想選擇。
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