二手 VERTEQ 1800-50 #9401930 待售

VERTEQ 1800-50光刻設備是為微電子應用中高精度過程控制而設計的先進成像蝕刻系統。利用光刻技術在半導體晶片上精確地制造薄膜層，從而以更高的效率和精度制造超細電路。1800-50光致抗蝕劑單元的核心是一個復雜的標線階段。這個階段是非常精確的，允許高精度放置標線相對於基板。X、Y、Z軸電動機的組合，加上高精度光學編碼器的機器，提供了一套全面的特性，讓用戶能夠將標線精確定位在0.001mm以內，甚至跨越大型晶圓基板。光致抗蝕劑工具利用各種復雜的工藝，將標線上形成的圖樣精確轉移到晶圓表面，並精確蝕刻圖樣。首先，最先進的1.0KW汞氙燈提供了曝光光刻膠所需的紫外線光源，而獲得專利的多光束DirectView™掃描儀確保了成像場的精確均勻照明，提供了無與倫比的分辨率和均勻性。然後利用專門設計的水性和有機顯影劑進行曝光後開發，以最大限度地提高成像吞吐量和與各種可用的光刻膠制劑的兼容性。圖案化光刻膠的蝕刻是使用先進蝕刻氣體的專有資產進行的。這些氣體與專門的蝕刻模型相結合，采用先進的真空泵送和凈化技術，由精密的流量控制器設備控制，為各種半導體制造工藝提供快速、準確和可重復的蝕刻。VERTEQ 1800-50光抗蝕劑系統是解決方案規模電路制造的理想選擇，具有多層和高縱橫比布局。1800-50年提供的高級成像、蝕刻能力和單元穩定性相結合,可以快速高效地制造復雜的設備。高級診斷和過程驗證技術可確保正確處理參數/設置/基板,從而使用戶能夠始終保持較高的過程產量。