二手 VERTEQ 1800-6AL #9255509 待售

製造商
VERTEQ
模型
1800-6AL
ID: 9255509
晶圓大小: 6"
優質的: 1997
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" Does not include controller and cables 1997 vintage.
VERTEQ 1800-6AL光阻設備是一種高精度、自動化、靈活的PECVD系統,用於半導體、光電和生物醫學元件的制造和加工。利用先進的管式加熱室,該裝置可以精確控制光刻膠的化學性質、沈積速率和機器的整體性能。1800-6AL工具利用多種氣相沈積技術,沈積具有良好薄膜均勻性和厚度控制及可重復性的光致抗蝕劑保形薄膜。它使用具有交流源、磁控管濺射和高壓PECVD腔室的多部分資產進行操作,從而優化操作以處理所需的薄膜結構。交流電源用於在放電室中產生電壓控制的電場,以磁性激發高壓過程氣體。高功率磁控管濺射源被用作陽極,產生高能汽化液滴的受控通量,這些液滴與反應室內的過程氣體反應。過程氣體在等離子體中的反應將液滴分解成光致抗蝕劑,以薄膜的形式沈積在基板上。VERTEQ 1800-6AL模型操作極為方便,具有專用控制器,用戶可以調節工藝氣體的流量、壓力和溫度,並監控目標膜厚度的沈積速率。基板的溫度也可以使用專用加熱器精確控制。憑借這些高度先進和可配置的特點,該設備能夠以最小的後期處理,準確可靠地沈積厚度、粒度和均勻度一致的光刻膠薄膜。1800-6AL還具有自動調平的便利性,使操作員能夠在項目之間有更快的基板轉換時間和更快的周轉時間。這種特性對於較大的光刻膠基板特別有用,允許沈積板的自動水平調整和基板對準,減少手動處理。這大大降低了人為失誤的風險,簡化了生產流程;最終實現更快的吞吐量和提高生產率。綜上所述,VERTEQ 1800-6AL是一種先進的PECVD系統,具有良好的薄膜均勻性和精確度,提供高精度的光刻沈積自動控制。該裝置具有自動定級、監測基板溫度、精密壓力和溫度控制等特點,是廣泛應用於半導體、光電和生物醫學器件制造加工行業的魯棒工具。
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