二手 VERTEQ 1800 #293760299 待售

VERTEQ 1800是一種光刻設備,與其他光學投影系統相比,其產量-通量提高高達25%。它是一種通用的單曝光工具，適用於一系列的細線光刻工藝，包括單和雙圖樣。該系統提供5x-80 x的寬放大倍數,具有高分辨率和穩定性。1800系列光阻系統具有高功率和高分辨率的二進制投影光學,可提供極高效的0.165微米特征尺寸功能。最多可有9個激光二極管光源提供16兆瓦的UV功率以提高吞吐量。光敏裝置還具有BCD、模模和晶片對準技術。VERTEQ 1800的自動化模塊具有先進的對齊功能和基於模式的優化,以提高過程的重復性和準確性。該機器提供了一個自動化的多用戶界面（MUI），可用於多個操作和增強吞吐量。此外，軟件還支持反向音調曝光（RTE），用於精確的模擬曲線分布。1800還具有晶圓上的電壓調整功能,以最小的停機時間快速調整晶圓上的多余電壓。此外，該工具還設計了幾個智能傳感器插槽，用於監測溫度、功率、劑量和晶片對晶片的對準。這種對環境的警惕監測保證了晶片的平面化，更快的液滴沈降和最小的汙染。資產還配備了精確的幾何叠加能力，在這種能力中，微觀模塊可以檢測到模式，並將其對準精確的位置，即使大部分區域扭曲。此外,光刻膠模型中內置的MEMS掃描儀技術可確保無循環延遲時間,並且其高達400毫米/秒的寬掃描速度可確保均勻的特征覆蓋器。總體而言,與傳統系統相比,VERTEQ 1800光刻膠設備提供了優化的穩定性、產量-吞吐量改進、自動化MUI和高分辨率等功能。這使得光刻系統成為生產細線光刻應用的理想選擇。