二手 VERTEQ MEGASONIC #9187710 待售

VERTEQ MEGASONIC是為PCB和微電子應用而設計的光阻設備。它采用專門的膜技術，將一層薄薄的光刻膠附著在幾乎任何底物上。這種光致抗蝕劑然後通過遮罩或直接暴露在光線下，這導致它在某些地方暴露在光線下變硬。光致抗蝕劑的這種硬化使得這些所需的曝光區域能夠被蝕刻掉，而未曝光的區域則保持完整。MEGASONIC光致抗蝕劑系統對水、酸和其他化學物質具有很高的抵抗力,並且還可以承受極端溫度。這使得它非常適合於高溫處理和其他具有挑戰性的應用，在這些應用中，必須精確地從形狀獨特的元件中去除材料。利用該單元中使用的MEMS技術，可以提供小到亞微米的焦點點。VERTEQ MEGASONIC機器還允許使用不同類型的光掩模，允許將設計精確且可重復地轉移到光刻膠中。這使得該工具適用於需要嚴格公差和可重復性的生產應用。資產由幾個組成部分組成。在最高級別上，它們包括光源、光掩模、光敏桶、預清潔工藝、光掩模掩模站、成像設備、後清潔工藝和基材。模型的光源驅動設備,通常是紫外線、紅外線或電子束,具體取決於應用。同樣重要的是,要為所需的作業具有正確的功率、強度和斑點大小。光掩模用於將光引導到光刻膠中並允許精確成像。它們通常由一系列關於透明的模式組成，以將光引導到所需的區域。感光鼓是一種裝置，照相機放置在該裝置上以實現成像。滾筒以高速旋轉，允許曝光時間小於一秒。預清潔過程在光致抗蝕劑表面暴露之前清除其表面的任何顆粒或汙染物。這樣可以確保不會留下任何顆粒或雜質來影響圖像的質量。成像站用於將光掩模和基板引導到成像路徑中。成像站通常配有檢查攝像機，以確保在使用光致抗蝕劑之前有質量的曝光或清潔的基板。清潔後過程用於清除過程中可能在暴露後殘留在耐熱材料表面上的殘留物。這對於保證光刻膠層完全沒有缺陷是必要的。用於基板的材料與系統的任何其他組件一樣重要，因為它在暴露過程中需要能夠承受溫度。根據應用的不同，不同的材料如聚合物、復合材料或金屬可能是合適的。總之，MEGASONIC光致抗蝕劑單元是高精度應用的理想選擇。VERTEQ MEGASONIC機以其專門的膜技術和耐材料，是許多PCB和微電子應用的可靠選擇。