二手 VERTEQ ST600-C2-E1 #293602068 待售

VERTEQ ST600-C2-E1是一種用於制造尖端微電子器件的高性能光阻設備。該系統旨在提供對陣列制作過程的精確控制,產生出色的設備性能和可靠性。ST600-C2-E1是由五個主要成分組成的最先進的光刻裝置。第一個元件是紫外線（UV）激光器，能夠在UV-A、UV-B甚至UV-C範圍內發射短波長輻射。這種激光器用於在半導體晶片和其他基板上繪制光刻石層圖樣。激光由數字信號處理器控制，使其能夠以精確的精度產生任何復雜的模式。機器的第二個組件是符合人體工程學的工作站，專為熟練的操作員設計，以安全、高效的方式工作。該工作站可以在激光下旋轉和傾斜晶片，從而能夠在各種表面上精確寫入光刻膠。它還具有傳感器，用於檢測要暴露的表面積，並向操作員提供反饋，以確保光刻膠的均勻覆蓋。第三個組件是數字控制器,用於監視工具的性能並調整電源輸出以確保正確的模式。資產還有幾個傳感器，包括激光束診斷和晶圓溫度傳感器，以確保一個穩定的過程。模型的第四個組成部分是一個強大的曝光後單元，利用先進的光學器件將掩模對準晶圓表面，並提供精確的光阻覆蓋。此單元還具有幾種嵌入式算法來校正在光束對準和曝光期間可能發生的錯誤。最後，該設備的第五部分是晶圓運輸用傳送帶。這條皮帶配有傳感器，確保晶片從工作站安全高效地轉移到曝光後單元，從而完成整個制圖過程。總體而言,VERTEQ ST600-C2-E1系統是一個非常可靠、高效和精確的光刻裝置.它具有高性能和多層安全性，可用於尖端微電子器件的制造。