二手 VPT Argus 58 #9199501 待售
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ID: 9199501
Optical coater, 58"
Chamber:
Width: 58"
Depth: 28"
Water-cooled chamber
Stainless steel
(2) Opening doors
Integrated stand
Vacuum pumping system:
Pumping system for chamber includes:
EDWARDS GXS 160/1750 Dry pump and blower package
(2) PFEIFFER ALCATEL ATP 2804 Maglev turbo-pumps
CTI CT10 Cryo pump
ADIXEN ALCATEL ADS-501 Dry pump \ blower package
Substrate fixture system:
(6) Diameter planets, 16"
Process system:
(3) MAGNETRON DC Sputters, 8"
(3) ADVANCED ENERGY 10 kW power supplies
(2) Sputtering cathodes co-sputtering function
(3) SIERRA APPLIED SCIENCE INC Sputtering cathode, target 8" diameter (203.2 mm)
CCR Cobra DN 400 RF-Plasma Source, 16"
ADVANCED ENERGY 13.56 MHz RF Power supply 5.5 kW
(4) VPT 2 kW Quartz lamp heaters
Type J thermo couple probe
INFICON XTC-3 With (6) crystal heads
Ion current monitoring: Faraday cup
Power systems includes:
Integrated power distribution enclosure
PC \ PLC Based control system:
Factory talk Human Machine Interface (HMI)
ALLEN BRADLEY Logix PLC controller
Utility requirements:
Power supply: 208 VAC, 65 kVA, 50/60 Hz.
VPT Argus 58是為晶圓制造和微光刻應用而設計的光刻設備。該系統能夠產生分辨率高達傳統工具五倍的高清圖像,同時提供高可重復性和超低紫外線曝光時間。該裝置能夠在低抗壓和低紫外線暴露水平下運行，從而能夠精確繪制微觀和納米級特征。該機器利用氦硼激光器誘導光敏分子以受控模式沈積到晶片上。這就產生了高度準確和一致的模式，這對於微光刻應用至關重要。該工具非常適合於各種任務，如光刻、激光制圖和抗塗層。資產包括用於晶圓對準和精確抗蝕劑沈積的12英寸步進/掃描儀。它還配備了用於精確光束控制的計算機控制激光束光斑大小模型，以及一個基於軟件的光束掃描設備，用於掃描晶圓表面的抗蝕劑。這允許亞微米級的抗蝕劑沈積分辨率。Argus 58還包括氦霓超分辨率象限特征等可選特性，使圖案可以在小於10µm的間隙內進行剪接；使晶片精確對準的自動光學定心系統；一個交叉晶片同步特征，以便更好地定位感光層；和Opticlock單元，用於精確的陣列。總體而言，VPT Argus 58是用於高清微光刻工藝的可靠工具。它的特點使得能夠精確和精確的圖樣，從而產生更高的產量晶片和提高生產率。該機使用簡單，與大量光敏材料兼容。Argus 58是任何半導體設備的寶貴工具,是生產最先進的集成電路設備的必備工具。
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