二手 WAFER PROCESS SYSTEMS 1222-327 19/21 #9216432 待售
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ID: 9216432
優質的: 2003
Acid bench
Sink with faucet: 12" x 26.5"
Chemical bath: 10" x 9"
Holding tank: 15" x 12"
Work surface area: 14" x 30"
EPO-100 Controller
Spin coater module WS-400A-6NPP/LITE/IND
With LAURELL controller
DI Bubble controller
Holding tank alarm monitor controller
Hot plate timer
Hot plate stirrer & temperature controller
(2) Bottom drawer storages for chemicals and supplies
2003 vintage.
WAFER PROCESS SYSTEMS 1222-327 19/21光刻設備是處理矽片的半自動工具。該系統能夠執行從定向蝕刻和等離子體蝕刻到光刻的各種過程。它提供了一種在單個矽晶片上創建多層半導體器件的可重復、準確和經濟的方法。該1222-327 19/21包括一個生產階段，用於對帶正電荷的晶片施加光致抗蝕劑。光致抗蝕劑是一種化學物質，為了產生光化學效應而施加在矽片表面。它一般是光敏的，暴露在光線下變得不溶解，允許達到特定的屈服。一旦光致抗蝕劑被施加到晶片上並暴露在光源下，晶片要麼被轉移到使用高壓水噴霧沖洗掉不需要的抗蝕劑區域的振蕩噴霧櫃中，要麼轉移到使用真空去除殘留抗蝕劑的真空泵machian上。在洗滌過程之後，使用含有苯的溶劑將晶片從抗蝕劑中剝離出來，這些溶劑以自動旋轉的方式施用。有時在晶圓處理階段使用熱處理。這包括將晶片放在烤箱或爐子中進行回火。這樣做有多種原因，例如使其更耐應力或改變電氣特性。一旦光致抗蝕劑和去除過程完成，就會使用薄膜沈積機在晶片上增加一層光致抗蝕劑。這種工藝一般會形成一種保護性塗層，使許多額外的程序步驟得以進行。1222-327 19/21單元利用高度復雜的編程,操作員必須能夠監控每個進程的發生。為了保證高質量的結果，機器進行了包括工具測試、檢驗測試、電氣測試在內的一系列測試。通過進行這些測試,可以快速發現並解決任何問題。WAFER PROCESS SYSTEMS 1222-327 19/21是任何半導體制造工廠必不可少的工具。它能夠以準確和可重復的方式創建多層設備。此外，資產遵守嚴格的生產流程，以確保達到最高水平的產品質量。
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