二手 YSYSTEM Ywafer mapper GS2 #293627974 待售

YSYSTEM Ywafer映射器GS2是由YSYSTEM設計的光刻設備。它是為在大面積基板上精確對準和曝光薄膜光刻膠圖案而設計的。Ywafer mapper GS2是一種具有先進功能的微控制評估系統，具有很高的穩定性和無與倫比的性能。YSYSTEM Ywafer mapper GS2是一個最先進的光刻設備,能夠以高精度和高精度生產高質量的光刻圖樣。它采用先進的對準方法，采用激光二極管定位機，可以在任何尺寸的基板上精確對準。該工具帶有一個晶片框架，能夠容納四個尺寸不超過200毫米的晶片。靜電臺可確保光刻膠穩定且低振動地暴露在基板上。Ywafer成像儀GS2的光學組件由高分辨率成像鏡頭和快門資產組成。快門模型能夠以快速的≤1ms曝光時間將光刻膠圖樣曝光到晶圓上。曝光時間是高度可調的，允許暴露於廣泛的強度水平。YSYSTEM Ywafer映射器GS2使用一個完全封閉的計算機控制的曝光室和一個4區加熱設備來控制曝光環境。先進的溫度控制系統使用熱電偶，以確保均勻的曝光環境和光刻膠圖案在晶片整個區域的均勻曝光。該單元的集成控制器允許輕松操作和強大的成像能力。控制器配備了基於Web的數據管理機器，以便於配置工具設置和處理曝光數據。YwaferMapper GS2是一種高效、可靠的光刻資產，可提供高分辨率光刻膠在大面積基板上的精確曝光。激光二極管定位模型、快門設備和4區加熱系統等先進的控制特點確保了光刻膠的均勻、高質量的曝光。