二手 YUASA LPD-182 #293748586 待售

YUASA LPD-182是一種高質量的光刻設備，主要用於晶圓技術，如微電子學、生物技術和光刻。它由三種成分組成：光刻級光刻膠、抗蝕劑帶狀溶液和顯影劑/溶解溶液。抗蝕劑帶溶液設計用於去除表面汙染物，而顯影劑/溶解溶液則去除光致抗蝕劑和不需要的副產物。LPD-182光刻系統由於其低kV光刻方法和低溫高質量晶片而具有很高的可靠性。光致抗蝕劑單元的短波長使其能夠創造出可以很容易地解析和陣列到基板上的特征。該機特別有效地產生尺寸在1-5微米左右的高質量、小規模特征，非常適合微電子應用。另外，YUASA LPD-182工具由於其低溫低kV光刻方法，不需要石刻，節省時間、能量和成本。LPD-182光敏資產提供高通量、清潔、均勻性和提高的光敏性。此外,該模型采用低kV光刻方法,使基板表面的圖樣更容易繪制,並具有更大的工藝靈活性。抗蝕劑帶溶液有利於均勻的表面清潔，去除玻璃和矽片上的有機表面汙染物。然後將晶片預先烘烤，以除去殘留的汙染物，並使表面準備成型。然後通過分配機器進行光刻膠分配。它首先在基板上分配極少量的光刻級光刻膠。這是通過將分配頭與基板接觸，然後在保持恒定接觸的同時快速移動它來完成的。這種分配方法最大限度地減少了晶圓的光刻塗層，從而減少了圖樣的不均勻性。底物隨後暴露於一個光源，從而觸發光致抗蝕劑分子的交聯。收集到的光子會導致光致抗蝕劑分子的能量增加，從而削弱它們的鍵並允許它們交叉連接。這種交聯也因基板的交替旋轉而增強。暴露後，基材再用顯影劑/溶解溶液洗滌。顯影劑/溶解溶液除去光致抗蝕劑以及任何其他有害副產物。YUASA LPD-182光致抗蝕劑設備中采用的減壓步驟也提高了基板與光致抗蝕劑之間的附著力。最後，用後烘烤來提供光刻膠的額外硬化。LPD-182系統的烘烤溫度可以根據所需的圖樣特性來調整。由YUASA LPD-182單元獲得的垂直線、銳邊和高產率使其成為微電子應用中備受追捧的光刻機。