二手 ZEISS A20 #9259775 待售

製造商
ZEISS
模型
A20
ID: 9259775
AR Coater system (30) Lenses per 70 minutes cycle Wash line DESPATCH Oven Flow booth Anti-static gun.
蔡司A20光刻設備是一種用於納米級光刻應用的高性能模塊化光刻機。它是生產高密度電子(HDI)電路和存儲芯片以及先進材料研究的理想選擇。A20能夠通過分辨率、特征捕捉和精確度將成像功能的大小降低到12 nm,使其成為最高質量規格的頂級光刻系統之一。蔡司A20單元配備了先進的成像光學器件和用於更高分辨率圖像的微圖案發生器。該機器包括一個直接曝光精細對準(DFFA)工具和一個真空曝光區域,能夠在直徑不超過15英寸的6英寸晶片和其他基板上連續成像。自動化控制資產提供了高可重復性和改進的周期時間,自動化晶片加載和卸載。此外,直觀的用戶界面使模型易於所有用戶使用。該設備配備了許多功能,旨在提高生產的精度和精確度, 包括晶片在基板上的精細對齊的元級, 一個自動特征識別系統,幫助減少模式失真, 以及一臺高性能比較顯微鏡和一臺板載計量器,可顯示具有低噪聲水平的特征位置、方向、大小和形狀信息。該機器還能夠進行元階段掃描,使用戶能夠快速檢查多個位置以獲得最佳成像結果。A20工具具有使用多種抗蝕劑配方的靈活性,以及廣泛的工藝化學。它還能夠運行多個過程步驟,如旋轉塗層、軟烘烤、預成像和後成像,所有這些都可以通過最先進的軟件系統實現自動化。此外,該資產還具有廣泛的曝光源,包括氟化氙、氟化k和 YAG激光源。總體而言,ZEISS A20光刻模型是一種先進的光刻設備,可為用戶提供分辨率最高的圖像和精確度,以實現極其精確的微圖案。它具有廣泛的功能,包括直接成像和特征捕獲、自動抗蝕塗層、自動比較顯微鏡和板載計量。它還具有超過6英寸晶片和較大基板的成像功能,並為各種抗蝕劑配方和工藝化學設計,使其成為各種先進光刻實驗的強大而通用的工具。
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