二手TEL / TOKYO ELECTRON(反應爐)待售

TEL/Tokyo Electron是半導體工業中使用的反應堆的領先制造商。該公司提供一系列的反應堆模型，每一種都是為了滿足集成電路制造中的特定要求而設計的。TEL流行的反應堆模型之一是Triase+EX-II Ti/TiN，廣泛用於沈積鈦和氮化鈦薄膜。該模型具有良好的步長覆蓋、均勻性和低電阻率，保證了高質量和可靠的薄膜沈積。另一個值得註意的反應堆是NT333，它是為蝕刻工藝而設計的。它提供精確的蝕刻速率控制和高的選擇性，使其成為各種應用如圖樣轉移和等離子體蝕刻的理想選擇。TEL反應堆的關鍵優勢之一是其先進的技術和創新的設計。這些反應堆配有精密的控制系統，能夠精確的過程控制和可重復的結果。此外，TEL反應堆以其高生產率和低擁有成本而著稱，使其成為半導體制造商的一個有吸引力的選擇。TEL反應堆應用的例子包括內存設備、邏輯芯片和微處理器的制造。這些反應堆在生產高性能和高能效的半導體器件方面發揮著至關重要的作用。綜上所述，TEL/Tokyo Electron的反應堆，如Triase+EX-II Ti/TiN和NT333，提供了先進的技術、優越的性能和性價比，使其成為半導體行業的熱門選擇。