二手 TEL / TOKYO ELECTRON NT333 #293659316 待售

TEL / TOKYO ELECTRON NT333
ID: 293659316
Atomic Layer Deposition (ALD) systems.
TEL/TOKYO ELECTRON NT333是一種最先進的外延反應器,設計用於研究應用和先進的設備生產。TEL NT-333反應堆結合了高效設計和小占地面積,允許無縫集成到生產車間。它能夠通過手動或機器人裝卸處理所有標準晶片尺寸(2「至8」)。TOKYO ELECTRON NT 333具有雙基板加熱器室,可將基板加熱至最高1200 °C的溫度。光學高溫計和溫度控制系統確保沈積周期的準確性和可重復性。此外,NT333得益於獨特的氣體輸送設備,該設備能夠實現低壓動態控制,從而能夠精確控制沈積速率和均勻性。反應堆還具有先進的電源模塊,其中可以編程電極射頻功率來控制溫度和層厚度。NT-333配備了先進版本的TEL E-VHS「主動室清洗」系統。這一單元為不斷變化的工藝條件提供了一個快速、高效的反應時間,允許更高的吞吐量水平和更少的可重復性問題因腔室汙染。TOKYO ELECTRON NT-333還配備了新增加的微粒過濾機,提供穩定的過程,降低粒子水平,提高晶圓產率。最後,TEL NT333還提供了一個全面的環境監測工具,提供各種prameter的實時數據,包括氣體壓力、溫度、射頻功率、溫度分布和壓力分布。對這些數據的分析可以幫助流程工程師輕松識別任何異常,並為精確收集頻譜數據提供平臺,促進流程優化和提高流程產量。
還沒有評論