二手 TEL / TOKYO ELECTRON NT333 #293809047 待售

TEL/TOKYO ELECTRON NT333是一種三區平行板式化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於產生高質量、均勻的薄膜和納米結構層。TEL NT-333具有廣泛的應用，包括先進的材料研究，用於半導體制造以沈積外延和器件層，如柵極氧化物、柵極介電和屏蔽。TOKYO ELECTRON NT 333有三個不同的工藝區域或區域，每個區域都有不同的操作環境和工藝硬件。第一個區，等離子體增強沈積（PED）區，是化學前體被引入和激活的地方。這一區域包括一個由+DC電壓提供動力的中央工藝室、電感耦合等離子體（ICP）和磁控管濺射源、原位分子束源以及化學前體的氣體入口。NT333的第二個區是生長或低壓化學氣相沈積（LPCVD）區。這個區域被設計用來誘導氣相前體分子和被加工的晶圓表面之間的反應。它包括一個帶有壓力控制設備的石英管反應室，以及用於爐加熱和微波輻射的源。TEL/TOKYO ELECTRON NT 333的第三區為後處理區。該區域的設計目的是冷卻加工過的晶片，並用原位的、幹燥的、基於等離子體的腔室清潔器清潔加工腔室和腔室組件。NT-333的三個區域被封閉在真空容器中，並包含在超高真空（UHV）環境中；這樣可以確保過程中使用的氣體保持分離且不受汙染,並能夠精確控制高質量薄膜沈積所需的生長環境和參數。TOKYO ELECTRON NT-333還包括一個計算機控制系統，用於精確控制生長參數和過程監測。該單元包括機器控制器、可編程邏輯控制器以及控制、數據采集和診斷處理器。計算機控制的工具可以被編程為精確控制氣體、功率和溫度參數，以及準確監控每個過程步驟。總之，TOKYO ELECTRON NT333是一種先進的平行板式CVD反應器，設計用於生產高質量、均勻的薄膜和納米結構層。它具有精確的控制和監測能力，以及超高真空環境，能夠精確控制增長參數和精確的過程監測。它專為半導體制造應用而設計，具有廣泛的應用，包括先進的材料研究。