二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias High-K #9399573 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS High-K Reactor是由TEL Ltd開發的革命性設備。該反應器利用高溫工藝減少晶圓生產中存在高k介電氧化膜。這一過程對於制造現代半導體和其他部件至關重要。該反應器的工作原理是發射微波產生的等離子體和熱陰極可變偏置。這種形式的冷等離子體分解使用氟基化合物去除晶圓表面存在的絕緣氧化膜，這反過來又有助於制造過程。這種高K反應堆采用單室材料處理系統，在超清潔環境中去除氧化膜，可處理溫度高達1000 °C的200毫米晶圓尺寸。與傳統的帶狀和清潔工藝相比，TEL Trias High-K反應堆使用較少的化學物質如含氟蝕刻氣體的時間較少，產生較少的環境廢物。這是可能的，因為該反應堆提供了自動化配方生成、高效運行和低維護。例如，與典型的雙室系統相比，單室反應堆平均消耗的氣體少35%。TOKYO ELECTRON TRIAS High-K反應堆高能效，為半導體器件的生產制造提供了顯著的效益。該反應堆能夠處理生產某些最復雜的半導體元件的各種特殊需要，例如溫度大於1000 °C的金屬氧化物半導體裝置。除此之外，該反應堆還能夠實現化學氣相集成和化學氣相沈積工藝，從而能夠更好地控制薄膜的物理和化學性質。總體而言，Trias High-K反應堆是現代半導體生產必不可少的設備。它具有成本效益、節能和環保，同時還提供了制造復雜半導體元件所必需的高溫環境和化學工藝。