二手 TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #293666985 待售

TEL Triase+EX-II Ti/TiN是第二代高效、高生產率的CVD反應堆，設計用於生產用於半導體器件制造的優質薄膜層。反應堆配備了獲得專利的均勻沈積技術，提供優越的層對層均勻性和工藝控制。其設計針對低成本運行進行了優化，並利用先進的高效氣動力廢氣最大限度地節省能源。反應堆由一個帶真空泵的主室和一個控制器單元組成，用於監控和管理各種系統參數。反應堆可用於各類材料，包括單層和多層薄膜，如氮化鈦（TiN）和鈦（Ti）。統一沈積技術采用獨特的入口氣體分配系統和先進的沈積參數，改進了均勻性和工藝控制，簡化了省錢工藝，降低了超額成本。它也消除了監測晶圓之間高粒子水平的負擔，這是由TOKYO ELECTRON獲得專利。EX-II Ti/TiN反應器適用於氫化非晶矽薄膜沈積。可以為一系列產品創建均勻的厚度層,包括發光二極管（LED）、太陽能電池和薄膜晶體管（TFT）。該反應器還能夠形成純單晶薄膜，與傳統方法相比提供了更高的沈積效率。壓力和溫度控制反應器的設計提供了更大的處理靈活性。與其他設計相比，它可以在較低的底物溫度下實現最大的沈積速率，同時提供卓越的薄膜均勻性和優異的熱穩定性。它還利用先進的沈積算法來改善步長覆蓋和穩定性，以及增強的電子-回旋加速器TiN電阻沈積。這就提高了蝕刻性能，減少了Ti/TiN丘陵的形成。TEL/TOKYO ELECTRON TRIASE+EX-II Ti/TiN反應堆的設計是為了降低資本成本，提高工藝功率和降低維護成本。利用多種傳感器系統對晶片厚度進行現場監測，對基板溫度和其它工藝參數進行了良好的控制。堅固的設計允許可靠和可重現的沈積結果。此外,還提供了幾種自定義選項來滿足各種應用程序的需求。