二手 TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #293802350 待售

TEL Triase+EX-II Ti/TiN是一種由TOKYO ELECTRON設計生產的通用溫度控制無核化學氣相沈積（CVD）反應器。它是一種高性能反應器，非常適合生產厚或薄、均勻的氮化鈦薄膜，同時避免與傳統的CVD系統相關的汙染。EX-II配備了高精度溫度控制器，允許對0°C至1500 °C的薄膜生長溫度進行精確控制。無芯設計還允許低調安裝和改進氣體均勻性，同時提供比其他系統更好的熱均勻性。反應堆由1000瓦加熱元件提供動力，確保了穩定和一致的加熱環境。結合均勻的氣體環境，Ti/TiN薄膜的厚度和厚度一致，並提供最佳的電性能。溫度控制器還確保了更好的溫度穩定性和準確性，從而改善了顆粒的形成和保留，減少了沈積缺陷。EX-II Ti/TiN反應堆的效率也很高，廢品為零，不需要任何額外的冷卻設備。它還與各種氣體兼容，例如氫氣、氙氣和氮氣混合物。該反應器非常適合多種應用，包括薄膜晶體管制造、電子封裝、高功率管理和場效應晶體管。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON Triase+EX-II Ti/TiN是生產均勻氮化鈦薄膜的理想CVD反應器，具有出色的溫度控制和能量效率。該系統的無核設計非常適合低調安裝,並提供一致的薄膜生長溫度,精確度無與倫比。反應堆的高效設計也消除了額外冷卻設備的需要，使其與各種氣體兼容。利用EX-II Ti/TiN，用戶可以實現極佳的薄膜性能和較少的沈積缺陷。