二手 TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #9252460 待售

TEL Triase+EX-II Ti/TiN是一種先進的化學氣相沈積（CVD）反應器，廣泛應用於半導體工業。它設計用於存放具有出色覆蓋範圍和步進覆蓋範圍的超小型電子器件制造所必需的超薄膜。Triase+EX-II Ti/TiN反應堆配備了一系列先進的高通量能力和特點。它包括一個用於控制反應物氣體溫度、密度和能量分布的高功率、高頻電子回旋共振（ECR）等離子體源，允許精確控制材料組成、膜厚度、速率、形態、粒度、表面粗糙度等沈積參數。此外，反應堆設計有寬闊的工藝窗口，允許多層薄膜沈積。Triase+EX-II Ti/TiN反應堆還具有高效加熱區技術，允許過程溫度高達960°C。這種增強的熱控制確保了準確和精確的沈積性能，同時保持了較低的熱預算限制。該設備還具有易於使用的控制軟件和腔室自動化，可簡化沈積過程，最大限度地減少腔室部件的壓力，提高系統壽命。該反應堆以運行可靠、薄膜質量優良而聞名。Ti/TiN薄膜的沈積即使超小尺寸也是可能的，允許用戶實現頂尖設備的制造。這種反應堆裝置還具有極好的階梯覆蓋率，對於生產高性能的互連和接觸至關重要。TOKYO ELECTRON TRIASE+EX-II Ti/TiN是一種生產優越的Ti/TiN薄膜的可靠、高質量的沈積反應器機器。其先進的特性和精確的薄膜沈積能力使其成為最苛刻的半導體應用的理想選擇。