二手 IPEC PLANAR 372M-44113-1 #9043888 待售

IPEC PLANAR 372M-44113-1是一種多級晶片研磨、研磨、拋光設備，專為薄晶片的平面化和制造而設計。該系統使用金剛石或氧化鋁等磨料顆粒和專利旋轉運動，同時使磨料顆粒穿過晶圓表面，操縱接觸壓力和拋光進行的速率。IPEC PLANAR單元使用的工具是專門為要求苛刻的應用而設計的,例如平面化、精密研磨和直徑6英寸的薄片拋光。集成的研磨、研磨和拋光頭為尋求高質量加工性能以及低浪費和汙染的用戶提供了雙贏的解決方案。372M-44113-1臺機器可確保力、壓力和溫度在整個晶片上保持恒定,從而實現均勻的平面化以及出色的精磨和拋光。為確保高端處理結果,刀具組件可調節以處理不同直徑的晶片。嵌入式機器包括用於薄層的雙級拋光、6英寸壓力板和用於控制釋放磨料的料鬥。IPEC PLANAR 372M-44113-1資產是可控的跨晶圓監控參數，確保統一的質量和可重復性的處理結果。內置計算機可防止溫度波動或壓力變化,同時仍可提供± 0.5 µm的一致結果。用戶友好的界面便於操作,降低了設置和操作的復雜性。372M-44113-1非常適合使用玻璃、石英和介電材料，如移植物的化合物，如的鋰、的鋰等。它允許在半導體和光電應用中進行精確的表面制備，以及微光學、激光元件和其他精密元件。它設計用於超高真空（UHV）應用,同時提供清潔、無塵的環境以提高零件質量。IPEC PLANAR 372M-44113-1具有可調整的特性和內置的計算機來監控工藝參數,是半導體行業不可或缺的一部分,它有助於實現晶圓的完美平面化、精磨和拋光,產生可靠和可重復的結果。