二手 AOC MAST-3000-AT #9145578 待售

AOC MAST-3000-AT
ID: 9145578
Mask cleaning system Main units: Loader CC-1 bath Nanostrip-1 bath Nanostrip-2 bath QDR-1 bath QDR-2 bath IPA vapor dryer Unloader Hot DIW (48kw) Specification of process baths: Chuck cleaning bath(CC bath) Nanostripbath Quick drain rinse bath (QDR) Isopropyl alcohol vapor bath (IPA) Chemical supply box H2SO4 Buffer & Circulation unit H2O2 Supply H2SO4 Supply IPA Supply.
AOC MAST-3000-AT是一種高性能的自動化晶片和掩模洗滌器,旨在提高現代半導體工業中光掩模制備的效率和精度。洗滌器是一種先進的設備,可處理6英寸(150毫米)的標線和10英寸(250毫米)的晶圓,最大掩模支架重量可達1.2公斤。它與所有標準的光掩模清洗溶液和緩沖劑兼容。MAST-3000-AT提供了一系列功能,可自動執行洗滌操作,例如控制速度、壓力和停留時間,以確保清潔過程中的最高質量和一致性。洗滌器配有步進電機驅動的雙磨砂輪,確保在大面積上均勻一致的洗滌器。它還具有可調節的磁頭,可以在晶片或掩模支架之間快速、方便地移動。該系統提供了一個強大而安靜的通風裝置來控制空氣中的微粒和煙霧。此外,洗滌器配有安全罩,在緊急情況下可以打開,以防止意外泄漏。洗滌器還配備了不銹鋼結構,具有最大的耐腐蝕性和耐用性。利用先進的運動控制算法和圖像處理機,設計了AOC MAST-3000-AT,以最大限度地提高生產吞吐量。洗滌器使用自定義構建的運動控制算法來計算每個晶片或掩碼的最佳洗滌模式,並且該工具可以根據用戶的要求和規格進行定制。此功能可提高洗滌過程的整體精度和一致性。此外,洗滌器提供了一種圖像處理資產,可以檢測晶圓表面上的任何劃痕或其他損壞。洗滌器還配備了標準接口,使數據能夠在模型和客戶的其他系統之間傳輸。MAST-3000-AT是半導體行業大大小小晶圓清洗工藝的理想洗滌器。它是現代生產環境的經濟高效的解決方案。
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