二手CANON(晶片&光罩清洗機)待售

佳能是成像和光學產品領域的著名制造商，它提供晶圓和掩模洗滌器，以滿足半導體行業的清潔需求。這些洗滌器的設計目的是從半導體制造過程中使用的晶圓和掩模中去除各種類型的汙染物。佳能的洗滌器，如MRS-600Fi，利用先進的清潔技術，以確保高效和可靠的性能。MRS-600Fi晶片洗滌器采用刷子、化學清洗和去離子水沖洗的獨特組合，有效清潔晶片。它可以去除小至0.2微米的顆粒，將汙染物降低到超低水平。洗滌器的精密清潔能力使其能夠實現高產率，提高半導體器件的整體質量。佳能的面膜洗滌器是專門為清潔光刻工藝中使用的光掩模而設計的。這些洗滌器確保去除可能對圖樣投射到晶片上產生不利影響的顆粒和殘留物。憑借其先進的清潔技術，佳能的面罩洗滌器能夠制造高度精確的半導體器件，有助於提高效率和產量。佳能晶圓和面罩洗滌器的優點包括清潔性能高、可靠性高、操作方便用戶。這些洗滌器能夠處理各種汙染物，並提供一致的清潔結果。此外,它們還配備了先進的自動化功能,從而提高了生產率並降低了運營成本。佳能晶圓和掩模洗滌器的例子包括MRS-600Fi、MRS-600HE和MRS-1200。這些洗滌器已被全世界的半導體制造商廣泛采用，證明了它們在滿足行業嚴格清潔要求方面的有效性和可靠性。