二手 DISCO DCS 141 #9382615 待售
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ID: 9382615
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 2008
Automatic wafer cleaning system, 4"-6"
Tool panel key
Spinner table, 4"-6"
Cleaning method: High pressure cleaning
Table rotation speed: 0-3,000 RPM
Spinner discharge pressure: 2.0 - 12.0 MPa
Gas: N2, air
Voltage: 100 V AC, 1.5 kVA, 50/60 Hz, Single-phase
2008 vintage.
DISCO DCS 141晶片和掩模洗滌器是一種最先進的精密清潔機器，設計用於清潔半導體制造過程中使用的晶片和掩模。其獨特的設計允許高速生產和清潔高達600晶片每小時，同時保持100-130 μ米的表面精度。DISCO DCS141 Wafer和Mask Scrubber采用超聲波和有機潤濕劑的定制組合，結合先進的洗滌設備，實現全面徹底的清潔性能。DCS 141 Wafer and Mask Scrubber的模塊化、緊湊的設計完全適合生產線。它具有兩級晶圓籃系統，允許在一個負載下處理多達600個晶圓。堅固的不銹鋼結構保證了機器的制造能夠承受生產的嚴酷。該裝置還設有一個集成的無塵操作排塵裝置和一個徹底清潔的自動清洗沖洗機。DCS141晶圓和蒙版洗滌器的清潔性能是首屈一指的。超聲波和噴射作用會擦洗晶片和口罩的表面，安全地清除汙染物，如助焊劑殘留物、油、灰塵和顆粒，而泡沫擦洗臂會進一步清潔任何頑固的顆粒。所使用的清潔液體無毒，自動清洗工具確保定期更換液體，以確保性能一致。DISCO DCS 141晶圓和蒙版洗滌器的先進控制使得操作和管理更加方便。用戶友好的界面允許快速設置循環參數和實時讀數監測清潔過程。智能HMI具有內置報警功能集合，支持多洗滌器的遠程監控。DISCO DCS141 Wafer and Mask Scrubber是一臺可靠、高效和高性能的清潔機，專為半導體工業中晶圓和面膜的高速生產而設計。其先進的清潔性能、堅固耐用的結構和用戶友好的控制,使其成為高質量結果和長期可靠性的理想選擇。
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