二手 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627542 待售
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單擊可縮放
ID: 293627542
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 Wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2006 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer and Mask Scrubber是一款最先進、可靠且易於使用的機器,旨在清潔晶片和Mask。這種廣泛使用的設備具有高精度晶片和低粒度的掩模清洗操作。這種洗滌器的綜合清潔機制具有振蕩和松弛的特點，以快速但溫和的方式清除顆粒汙染和殘留的化學物質。該系統通過創新技術和先進的工程設計,實現了卓越的清潔性能.DNS SS-3000-AR采用高效的清潔體系結構設計,包括晶圓和掩模洗滌器模塊、光滑快速洗滌器、化學註入模塊和濕洗滌器。晶圓和面罩洗滌器模塊由碗、滑塊和刷子組成。滑塊采用機動方式,以控制的方式輕柔地洗去顆粒.考慮到微妙的成分，刷子輕輕地清除晶片中的汙垢和其他汙染物。此外，化學註射模塊將清潔溶液精確註入洗滌器的正確軌道，以有效減少化學消耗。然後，濕式洗滌器在洗滌過程完成後進一步清除汙垢和化學溶液。再者，這個單元可以用多種清潔溶液進行擦洗，包括去離子水、異丙醇和稀鹽酸。實際的清洗過程是由振蕩和晃動相結合得出的，使得洗滌操作的有效性更高。此外，這種洗滌器還能實現顆粒尺寸低至0.3 μ m的分子清潔。另一大特點是能夠根據清洗用途設置廣泛的參數，包括洗滌器、振幅和預洗滌時間。這使得這種洗滌器能夠以高精度和精確度用於各種清潔用途。DAINIPPON SS 3000 AR晶圓和Mask Scrubber也是用戶友好的。本機配備了直觀的液晶觸控顯示屏和易於理解的菜單，令機器操作風起雲湧。液晶屏提供了對擦洗進度和任何潛在錯誤的全面了解,同時可以快速傳達所有相關信息。總之，SS-3000-AR晶片和掩模洗滌器是一個非常高效和用戶友好的工具，設計清潔晶片和掩模具有很高的精度和精確度。它配備了多種功能，以精心定制清潔參數，同時還提供直觀易用的液晶顯示屏。憑借其全面的清潔機制，該資產將在短時間內確保提供卓越的清潔效果。
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