二手 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627543 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293627543
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/ CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2005 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubber是一種高度可靠、高效和精確的工具,旨在使用全自動、多種操作模式清潔晶圓和Mask表面。這種洗滌器是作為先進半導體制造工藝的一部分而創建的。洗滌器采用加壓、帶洗滌劑的熱水、低真空吸力等方式，有效擦洗晶圓和面膜的表面積。這個過程創造了一個完美平坦光滑的表面，允許在物理氣相沈積的下一步完美蝕刻模式。洗滌器還包括一個精細的凈化設備，以確保清除清潔過程中從表面脫落的任何小顆粒。洗滌器具有廣泛的功能，包括一個功能強大、節能的泵，只使用大約2至3帕斯卡的壓力進行清潔，以及一個單獨的低真空吸力來去除顆粒。泵還具有可調節的流量，以便更好地控制清潔過程。此外,洗滌器具有超高精度模式,使設備能夠精確地瞄準和擦洗晶圓或掩模中的微小區域。洗滌器還配備了易於調節、可編程的運動控制系統。此功能允許操作員根據手頭的任務自定義洗滌器。運動控制單元還確保洗滌器以安全可靠的方式使用。為了增加方便和準確性，DNS SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubber配備了與洗滌器的運動控制機配合使用的數字圖像處理軟件。此軟件能夠分析和識別晶片或掩模表面的任何缺陷,使其能夠對洗滌器的設置進行調整以快速有效地清潔表面。總體而言,DAINIPPON SS 3000 AR晶片和掩模洗滌器是一種可靠且高效設計的工具,可為正在為半導體制造行業準備的任何晶片或掩模創建高質量、均勻的表面。憑借其高精度的資產、高效的節能功能和數字圖像處理軟件,DS-3000-AR可以確保為制造過程準備的表面得到適當的清潔,均勻且可用於蝕刻。
還沒有評論