二手 DNS / DAINIPPON SS-3100 #293810127 待售
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單擊可縮放
ID: 293810127
晶圓大小: 12"
優質的: 2012
Wafer scrubber, 12"
Power box
(4) Load ports
Wafer type: Notch
Main controller
Host controller
Indexer
Transfer robot
Reverse unit
(4) SSM Spin units
(4) SSV Spin units
(4) SHINKO SELOP Load ports
CO2 Bubbler maker
Remote AC Box
Handler system:
(4) SS Chucks
(4) SSR Chucks
Indexer robot
Transfer robot
Reverser
Process chambers:
SC1
CO2 Water
Rinse / Spin dryer
Process:
Brush
DI Water filter
(3) Nozzles: Spray, rinse, back rinse
SSV:
Vacuum chuck
(5) Nozzles: Back side rinse, SC1, Spray1, Brush1, Brush2
SSM:
Magnetic chuck
(4) Nozzles: Back side rinse, SC1, Spray1, Brush1
Power supply: 208 V, 60 Hz
2012 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3100 Wafer&Mask洗滌器是一種革命性的新型洗滌工具,專為高級光學和半導體封裝而設計。這種最先進的洗滌器具有先進的清潔、高能聚焦和超臨界流體分散技術的獨特組合，能夠徹底有效地清潔敏感的光學元件以及集成電路。DNS SS-3100洗滌器利用特殊的三模控制真空，有效消除任何類型的基材或掩模晶片上的灰塵、顆粒和表面缺陷。洗滌器的真空設計方便地調整不同尺寸和形狀的基板和創造一個最佳的洗滌環境。此外，潛水器能夠有效清除所有類型的汙染物，包括油、焊料和其他工業殘留物，給你最幹凈的結果。借助DAINIPPON SS 3100洗滌器，用戶可以輕松清潔敏感的口罩和晶片，如矽和TFT，以增強半導體行業的質量控制。DNS SS 3100洗滌器配有高能聚焦系統，確保在清洗過程中發揮最大效能。該系統有效地降低了氟和硫酸鹽的汙染水平，改善了半導體表面的平滑度，減少了聚合物和粘合劑的汙染。此外,它還有效地控制了薄層的精密清潔過程.由於其超臨界流體分散技術，SS 3100洗滌器能夠以高超音速的射流速度清除不需要的汙染物。通過制造空氣/液體-氣體混合物，洗滌器產生一種極其濃縮的清潔溶液，能夠有效地解決各種表面問題。利用這一技術，洗滌器不僅能夠清潔基板和面膜的表面，而且能夠高精度地進行檢查。總體而言,DNS/DAINIPPON SS 3100是一種出色的晶圓和掩模清潔設備,具有先進的清潔功能和關鍵的液體分散。這種洗滌器非常適合在半導體工業中使用，並確保清潔過程中的最大效率。此外，它還能夠仔細檢查表面清潔的結果，使其成為高性能、註重質量的公司的絕佳選擇。
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