二手 DNS / DAINIPPON SSW-629-B #293608924 待售

DNS/DAINIPPON SSW-629-B Wafer&Mask洗滌器是一種用於從半導體基板和光刻光學器件中去除顆粒的自動化解決方案。這種裝置專為顆粒清潔應用而設計，如低k或Cu基板，用於背面和正面濺射過程。該設備包括一個盒式裝載機/卸載機、一個裝有MFC控制器和機器部件的大型機以及一系列洗刷。每個洗滌刷都由一個定制的旋轉主軸組成，該主軸連接到一個機動化的可編程驅動器上。洗滌過程由伺服控制的空氣軸承系統操作，使刷子與旋轉主軸同步移動，兩個部件之間沒有任何摩擦。伺服控制單元可確保晶片表面均勻的洗滌壓力,並可進行精細調整以達到預期的效果。洗滌過程由微處理器控制的程序驅動，可以精確調整刷子和主軸的速度。這使操作員能夠以最高的效率執行高度有針對性的洗滌過程，確保晶圓上顆粒的均勻去除。洗滌器還配備了30瓦激光，同時配備了自動對焦和功率調節功能。這樣可以進行高度精確的調整,以獲得最佳的清潔性能。DNS SSW-629B采用機艙式外殼設計,以最大限度地提高操作員的安全性,並減少機載汙染。洗滌器內部裝有一臺強大的排煙機，從洗滌器外部輸送新鮮空氣，防止空氣再循環，減少對危險顆粒的任何接觸。洗滌器還包括一個可以方便地控制設備的控制單元。這包括使用操作日誌對洗滌器設置進行編程、調整洗滌器的速度和方向以及隨時監控洗滌器過程的能力。控制單元還具有直觀的液晶顯示屏,便於監控洗滌器的狀態並進行任何必要的調整。DAINIPPON SSW 629B是一種先進的晶圓和掩模洗滌器,旨在降低與顆粒汙染相關的風險,並最大限度地提高洗滌工藝的效率。該洗滌器結合其最先進的特點，如伺服控制的空氣軸承工具和強大、可調的激光，為去除半導體基板中的顆粒和光刻光學材料提供了高效、可靠和安全的解決方案。