二手 G&P TECHNOLOGY 412R #293823240 待售
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ID: 293823240
晶圓大小: 4"-12"
Post CMP cleaner, 4"-12"
Main unit
(2) Process chambers
PVA double-sided brush stations
Multi-line chemical dispense system
Color touchscreen interface
Status tower light
Integrated control system
Chemical modules
Multi-stage cleaning process:
Pre-clean station
First brush scrubbing stage
Second brush scrubbing stage
Megasonic cleaning stage
Spin-dry station
Internal plumbing, wiring, accessories are included.
AXUS/G&P TECHNOLOGY 412R是為半導體行業設計的尖端晶圓和掩模洗滌器。它采用了先進的技術和特點,以確保對半導體制造中使用的晶片和掩模進行高效的清洗和處理。AXUS 412R的核心是其強大的洗滌機制,這對於去除晶片和掩模中的汙染物和殘留物至關重要。洗滌器配有高性能的刷子和清潔墊,能夠達到徹底一致的清潔效果。這些工具被設計成在細膩的晶片和蒙版上是溫和的,同時仍然提供有效的擦洗動作來實現原始的表面。G&P TECHNOLOGY 412R設計用於容納各種尺寸的晶片,從小型半導體模具到大型基板。其多用途夾緊系統確保晶片在清洗過程中的安全和精確處理。這一特性對於保持晶片的完整性和防止擦洗過程中的損壞尤為重要。412R的主要亮點之一是其高級自動化功能。洗滌器配有智能控件和可編程設置,使用戶能夠根據自己的具體要求定制清潔參數。這種自動化程度不僅簡化了操作,而且確保了一批又一批的一致和可重現的清洗結果。除了洗滌功能外,AXUS/G&P TECHNOLOGY 412R還提供全面的過程監控功能。洗滌器配有傳感器和探測器,可連續監控清潔溶液、溫度和壓力水平等關鍵參數。這種實時反饋使操作員能夠快速調整,以優化清潔性能並保持運營效率。AXUS 412R的設計也考慮到了用戶的便利。其用戶友好的界面和直觀的控件使操作員能夠在極少的培訓下輕松設置和操作洗滌器。洗滌器還配備了安全功能,以確保符合行業法規和標準,為操作員提供安全的工作環境。此外,G&P TECHNOLOGY 412R的構建考慮到了耐用性和可靠性.其堅固的結構和高質量的組件確保了長期的性能和最小的停機時間。這種可靠性對於半導體制造設施至關重要,在半導體制造設施中,連續運行對於滿足生產計劃和向客戶交付高質量產品至關重要。總體而言,412R代表了半導體行業中晶圓和掩模清潔的最先進的解決方案。AXUS/G&P TECHNOLOGY憑借其先進的洗滌技術、多用途的功能、自動化功能、過程監控和用戶友好的設計,412R是尋求優化其清潔工藝並實現卓越晶圓和掩模質量的半導體制造商的寶貴資產。
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